洁净棚中的四大污染来源

洁净棚的清洁与维护：
　　人们常常会听到这样的说法：“洁净棚中的污染又看不见，有什么好清洁的呢。”“清洁前与清洁后的洁净棚都一样，所以不需要清洁”。其实，这两种说法都是错误的。洁净棚不仅仅是工业生产活动中的一个组成部分，也应当被看作是整个生产系统的中心部分，因为有一系列关键工艺必须在高洁净度的环境下才能进行。那么究竟有没有必要对洁净棚进行定期的清洁维护呢？

在讲到清洁维护的重要性之前，我们先来了解一下洁净棚中的四大污染来源。
　　1、洁净棚中的工具、设备在运转的过程中会向洁净棚空间扩散尘埃粒子；
　　2、洁净棚中的产品也会向洁净室空间扩散尘埃粒子；
　　3、洁净棚中的设施，例如地面、墙面、天花板等；
　　4、洁净棚中的人员更是污染的主要来源，洁净棚中的污染有80%都来自于人员散发的粒子

　　既然洁净棚有这么多污染来源，为什么洁净棚“看上去”还那么干净呢？那是因为我们肉眼只能看到粒径大于50um的尘粒，需要用显微镜才能看到小于50um的尘粒。对于许多精密制造业来说，例如芯片制造业，任何大于0.1um的尘粒粒子都会对产品的品质产生影响。此时，就需要通过洁净室和污染控制技术来达到合格的生产环境。我们知道，洁净棚可以通过送风系统达到自净的目的，但是通过循环风系统只能去除一部分污染，仍会有大量的污染物在重力作用和布朗运动的作用下造成堆积。堆积在表面的污染物并不是静止不动的，污染物会通过表面直接或通过空气和人员等媒介间接地与产品发生“接触”，这种“接触”就会对产品造成污染，导致产品不良。此时，对洁净室进行定期的清洁维护就显得非常有必要了。我们进行清洁维护的目的首先在于去除污染，已达到洁净室设计建造时预期的洁净度，洁净棚但最终还是为了保护我们的产品不受污染，从而提高产品的优率。